Underpotential Deposition, Oscar Alejandro Oviedo; Luis Reinaudi; Silvana Gar

Автор: Kiyotaka Wasa
Название: Handbook of Sputter Deposition Technology,
ISBN: 1437734839 ISBN-13(EAN): 9781437734836
Издательство: Elsevier Science
Рейтинг:
Цена: 140360.00 T
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.
Описание: Faetures a team of contributing authors with backgrounds specializing in the various new applications of sputtering technology. This book introduces the fundamentals of thin films and sputtering deposition, explores the theory and practices of this field, and also covers new technology such as nano-functional materials and MEMS.

Автор: Cordoba Castillo, Rosa
Название: Functional nanostructures fabricated by focused electron/ion beam induced deposition
ISBN: 3319020803 ISBN-13(EAN): 9783319020808
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 104480.00 T
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.
Описание: This book offers a detailed study of functional nanostructures (ferromagnetic, superconducting, metallic and semiconducting) fabricated by focused electron/ion beam induced deposition techniques.

Автор: Cheol Seong Hwang
Название: Atomic Layer Deposition for Semiconductors
ISBN: 1461480531 ISBN-13(EAN): 9781461480532
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 104480.00 T
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.
Описание: This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines.

Автор: J. Mazumder; O. Conde; R. Vilar; W. Steen
Название: Laser Processing: Surface Treatment and Film Deposition
ISBN: 9401065721 ISBN-13(EAN): 9789401065726
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 81050.00 T
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.
Описание: Proceedings of the NATO Advanced Study Institute, Sesimbra, Portugal, July 3-16, 1994

Автор: Xiu-Tian Yan; Yongdong Xu
Название: Chemical Vapour Deposition
ISBN: 1848828934 ISBN-13(EAN): 9781848828933
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 174150.00 T
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.
Описание: Chemical Vapour Deposition explores the design capabilities and applications of advanced materials. From physical fundamentals to the optimization of processing parameters, this volume presents the development and manufacture of high performance materials.

Автор: Srinivasan Sivaram
Название: Chemical Vapor Deposition
ISBN: 1475747535 ISBN-13(EAN): 9781475747539
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 95770.00 T
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.
Описание: Later Van Nostrand agreed to publish my book as a text intended for students at the senior/first year graduate level and for process engineers in the microelectronics industry, This book is not intended to be bibliographical, and it does not cover every new material being studied for chemical vapor deposition.

Автор: Minier
Название: Particles in Wall-Bounded Turbulent Flows: Deposition, Re-Suspension and Agglomeration
ISBN: 3319415662 ISBN-13(EAN): 9783319415666
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 139750.00 T
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.
Описание: The book presents an up-to-date review of turbulent two-phase flows with the dispersed phase, with an emphasis on the dynamics in the near-wall region. Also included are models of particle dynamics in wall-bounded turbulent flows, and a description of particle surface interactions including muti-layer deposition and re-suspension.

Автор: Xiu-Tian Yan; Yongdong Xu
Название: Chemical Vapour Deposition
ISBN: 1447125509 ISBN-13(EAN): 9781447125501
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 174130.00 T
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.
Описание: Chemical Vapour Deposition explores the design capabilities and applications of advanced materials. From physical fundamentals to the optimization of processing parameters, this volume presents the development and manufacture of high performance materials.